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セラミックターゲットは、物理蒸着 (PVD) と呼ばれるプロセスで使用されます。これは、半導体デバイス、太陽電池、光学コーティングなどのさまざまな薄膜の製造に使用されます。 セラミックターゲットは、アルミナ、二酸化チタン、ジルコニア、二酸化ケイ素などの材料で構成されています。 それらは、高い融点、低いスパッタリング速度、および高い純度を有し、PVDプロセスでの使用に普及している。 セラミックスパッタリングターゲットは、耐久性があり、化学的に安定しており、熱や摩耗に強いため、多くの産業用途に理想的な選択肢となっています。
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